由于近年來(lái)磁性元件的小型化和性能的增加，需要一種軟磁性材料，該軟磁性材料在幾百兆赫茲或較高的頻率范圍內(nèi)表現(xiàn)出高磁導(dǎo)率，是具有高飽和度的軟磁材料。磁通密度為5 kG或較高，高電阻率和低矯頑力。需要具有高比電阻的軟磁材料作為變壓器的材料。作為具有高飽和磁通密度的磁性材料，F(xiàn)e或以Fe為主要成分的合金是眾所周知的。然而，當(dāng)通過(guò)諸如濺射之類的膜形成將其形成為磁性膜時(shí)，這種合金盡管具有高的飽和磁通密度，但仍表現(xiàn)出高的矯頑力和低的電阻率。因此，較難從這種合金獲得令人滿意的軟磁性能。高頻范圍內(nèi)的磁導(dǎo)率減少的原因之一是由于渦電流的產(chǎn)生而引起的損耗。為了減少產(chǎn)生渦電流，需要減小膜厚并增加薄膜電阻率。然而，在不使磁性能下降的情況下，實(shí)現(xiàn)電阻率的增加比較困難。由諸如鐵銹等合金制成的軟磁薄膜的比電阻小至十幾μΩ.cm。所需要的是軟磁合金，其具有增加的電阻率，并且還保護(hù)至少0.5 T的飽和磁通密度。此外，當(dāng)實(shí)現(xiàn)薄膜形式的合金時(shí)，由于產(chǎn)生磁致伸縮等的影響，仍然較難獲得令人滿意的軟磁性能。為了解決上述問(wèn)題而做出本發(fā)明。因此，本發(fā)明的目的是提供具有高電阻率的軟磁性合金作為在高頻范圍等中使用的磁性材料，以及使用這種軟磁性合金的平面磁性元件。